导 师 简 介
聂陟枫，男，工学博士，研究员/硕士生导师，副经理，云南省“兴滇英才支持计划”青年人才、昆明市“春城计划”青年人才等。云南省金属有机分子材料与器件重点实验室主任、国家自然科学基金函评专家、云南省科技评审专家、中国有色金属学会会员，担任《Applied Thermal Engineering》《Case Studies in Thermal Engineering》《Langmuir》《Surfaces and Interfaces》《ChemistrySelect》《Journal of Crystal Growth》等期刊审稿人
近年来，主持国家自然科学基金项目1项，云南省基础研究重点项目等省部级项目10余项，企业委托的技术攻关项目2项。在《Applied Surface Science》《Surfaces and Interfaces》《International Journal of Heat and Mass Transfer》《Applied Thermal Engineering》等期刊发表SCI论文40余篇，申请授权国家发明专利5件。获云南省自然科学二等奖1项，中国有色金属工业科学技术奖三等奖1项。
主要研究领域：
1. 化学法多晶硅制备应用基础研究
2. 金属有机分子材料设计、能源与环境催化
3. 重金属污染物治理与资源循环利用
荣誉/获奖：
1. 云南省自然科学二等奖（排名第二）
2. 中国有色金属工业科学技术奖三等奖（排名第二）
3. 云南省“兴滇英才支持计划”青年人才
4. 昆明市“春城计划”青年人才
5. 昆明市中青年学术和技术带头人后备
近五年代表性项目：
[1] 基于流化床反应器SiCl4氯氢化过程流化行为及热质传递特性研究，51904137，国家自然科学基金项目，2020/01-2022/12，24万元
[2] 云南省科技人才与平台计划，202205AG070004，云南省金属有机分子材料与器件重点实验室，2022/01-2023/12，100万元
[3] 云南省基础研究重点项目，202401AS070021，基于氯硅烷微结构特性的多晶硅施主杂质磷调控机理研究，2024/03-2027/02，50万元
[4] 云南省地方本科高校基础研究联合专项重点项目，202101BA070001-032，SiHCl3-BCl3-H2-Si(s)体系多物理场耦合模型及其应用基础研究，2021/12-2024/11，40万元
[5] 云南省高层次人才培养支持计划“青年拔尖人才”项目，YNWR-QNBJ-2020-017，西门子法多晶硅制备应用基础研究，2021/01-2025/12，100万元
[6] 昆明市“春城计划”高层次人才引进工程青年人才项目，高纯度有机光电子OLED纳米材料CuPc制备关键技术，2020/01-2024/12，200万元
[7] 云南省基础研究专项面上项目，202201AT070017，基于多尺度分析的高纯晶体硅制备中氯硅烷特性的影响机制研究，2022/06-2025/05，10万元
[8] 云南省产教融合研究生联合培养基地，稀贵金属新材料产业云南省产教融合研究生联合培养基地，2024/01-2026/12，30万元
近五年的代表性论文（按发表年倒序排列）：
[1] Nie Zhifeng, Xue Rou, He Xing, Xie Gang, Xiong Huihui*, Atomic regulation to improve the sensing-performance of CoPc and NiPc monolayer toward chloromethane molecule: Insights from DFT calculations, Surface and Interfaces, 2023, 608: 155119. (IF=6.2)
[2] Guo Qijun, Dai Enrui*, Xu Shigang, Yang Yuehong, Yang Ni, Xie Gang, Nie Zhifeng*, Numerical Simulation of Fluidization Behavior and Chemical Performance for Hydrochlorination of Silicon Tetrachloride in a Fluidized Bed Reactor, Processes, 2023, 11: 2979. (IF=3.5)
[3] Xue Rou, Jiang Wen*, He Xing, Xiong Huihui, Xie Gang, Nie Zhifeng*, The Adsorption Mechanisms of SF6-Decomposed Species on Tc- and Ru-Embedded Phthalocyanine Surfaces: A Density Functional Theory Study, Molecules, 2023, 28: 7137. (IF=4.6)
[4] He Xing, Dai Enrui*, Xue Rou, Chang Qiaowen, Xiong Huihui, Nie Zhifeng*, Detection of SF6 decomposition gases by the pristine and Fe-doped porphyrin based on the first-principles calculations, Materials Today Communications, 2023, 36: 106914. (IF=3.8)
[5] Nie Zhifeng, Wang Chen, Xue Rou, Xie Gang, Xiong Huihui*, Two-dimensional FePc and MnPc monolayers as promising materials for SF6 decomposition gases detection: Insights from DFT calculations, Applied Surface Science, 2023, 608: 155119. (IF=7.392)
[6] Wang Yajun, Nie Zhifeng*, Guo Qijun, Song Yumin, Liu Li, Adsorption Behaviors of Chlorosilanes, HCl, and H2 on the Si(100) Surface: A First-Principles Study, ACS Omega, 2022, 7, 42105-42114. (IF=4.132)
[7] Xue Rou, Wang Chen, Wang Yajun, Guo Qijun, Dai Enrui, Nie Zhifeng*, Metal Embedded Phthalocyanine Monolayers as Promising Materials for Toxic Formaldehyde Gas Detection: Insights from DFT Calculations, Metals, 2022, 12, 1442. (IF=2.9)
[8] Wang Chen, Wang Yajun, Guo Qijun, Dai Enrui, Nie Zhifeng*, Metal Decorated Phthalocyanine Monolayer as a Potential Gas Sensing Material for Phosgene: A First-Principles Study, ACS Omega, 2022, 7, 21994-22002. (IF=4.132)
[9] Nie Zhifeng*, Wang Yajun, Wang Chen, Guo Qijun, Hou Yanqing, Palghat A. Ramachandran, Xie Gang, Mathematical model and energy efficiency analysis of Siemens reactor with a quartz ceramic lining, Applied Thermal Engineering, 2021, 199: 117522. (IF=5.295)
[10] Li Yadong, Nie Zhifeng*, Hou Yanqing, Xie Gang, Tian Lin, Parametric study of flow field and mixing characteristics of TiCl4 jet injected into O2 crossflow in oxidation reactor for titanium pigment production by chloride process, International Journal of Thermal Sciences, 2020, 156: 106460. (IF=3.744)
申请/授权国家专利：
[1] 聂陟枫，王亚君，戴恩睿，郭崎均，王晨，宋玉敏，郭婷婷，王海，谢刚，一种多晶硅还原炉的硅芯结构（实用新型专利，2022年03月11日授权，专利号：ZL. 202122770813.7）
[2] 石培光，王海，张晋，聂陟枫，宋玉敏，唐菊，李迎富，吕彦飞，一种用酞菁氧钛制备窄带红色荧光碳量子点的方法（发明专利，2023年03月28日授权，专利号：ZL. 201911349372.4）
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